納糯三維Nanoscribe：推薦指數(shù)★★★★★
納糯三維科技（上海）有限公司成立于2017年11月8日，是德國(guó)Nanoscribe在中國(guó)的全資子公司。德國(guó)Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國(guó)卡爾斯魯厄，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的衍生公司，現(xiàn)隸屬于LAB14集團(tuán)，在高精度增材制造領(lǐng)域處于全球地位。
Nanoscribe公司擁有世界的雙光子無(wú)掩模光刻3D打印技術(shù)，其Photonic Professional GT系列能夠輕松打印出精細(xì)結(jié)構(gòu)分辨率高出傳統(tǒng)高精3D打印機(jī)100倍的三維微納器件，而全新系列Quantum X平臺(tái)系列更是世界上個(gè)基于雙光子灰度光刻（2GL）的工業(yè)級(jí)打印系統(tǒng)，納糯三維科技依托母公司的技術(shù)優(yōu)勢(shì)，在微納制造技術(shù)方面處于地位。
灰度光刻先進(jìn)封裝設(shè)備的技術(shù)原理與核心優(yōu)勢(shì)：
1、雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL?）
該技術(shù)通過激光能量梯度調(diào)控，實(shí)現(xiàn)單體素調(diào)諧，結(jié)合雙光子聚合（2PP）的高分辨率與專利體素調(diào)整工藝，顯著減少打印層數(shù)。其動(dòng)態(tài)體素調(diào)整技術(shù)使打印速度較傳統(tǒng)雙光子光刻系統(tǒng)提升10至60倍，同時(shí)保持光學(xué)級(jí)表面質(zhì)量（表面粗糙度≤10nm）與亞微米級(jí)形狀精度（最小特征尺寸100nm）。
2、全結(jié)構(gòu)覆蓋與高精度控制
超高精度耦合結(jié)構(gòu)加工：分辨率低至100納米以下，可直接打印光纖-芯片、芯片-芯片耦合所需的微透鏡陣列、漸變折射率透鏡（GRIN Lens）等結(jié)構(gòu)，耦合損耗控制在1.5dB以內(nèi)，滿足光通訊、量子光子學(xué)的低損耗需求。
多材料兼容與異質(zhì)集成：支持光刻膠、玻璃、硅基材料及生物相容性材料，可在同一芯片上實(shí)現(xiàn)“微光學(xué)結(jié)構(gòu)+導(dǎo)電互聯(lián)通道”的一體化打印，解決傳統(tǒng)工藝中不同材料分步加工的對(duì)準(zhǔn)難題。
跨尺度結(jié)構(gòu)制造：既能實(shí)現(xiàn)納米級(jí)精細(xì)特征（如光子晶體孔徑<200nm），又能兼顧毫米級(jí)整體結(jié)構(gòu)（如微流控光學(xué)芯片），適配從光子芯片封裝到集成光學(xué)模塊的全尺寸加工需求。
3、自動(dòng)化與智能化
自動(dòng)傾斜補(bǔ)償功能：避免傾斜襯底上的拼接縫隙或階梯效應(yīng)，確保復(fù)雜結(jié)構(gòu)的制造精度。
智能軟件向?qū)В汉?jiǎn)化從準(zhǔn)備到創(chuàng)建打印作業(yè)的流程，支持多種文件格式（如Bmp、png、tiff、dxf、gds等）。
實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)：配備三個(gè)實(shí)時(shí)監(jiān)控?cái)z像頭，支持直觀操作，用戶可直接在內(nèi)置觸控屏上檢查作業(yè)狀態(tài)并調(diào)整打印效果。
【公司定位】作為雙光子灰度光刻微納加工制造的先驅(qū)和創(chuàng)新者，從科研實(shí)驗(yàn)室到工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)，Nanoscribe提供高精度增材制造解決方案，顯著簡(jiǎn)化制造流程、提升效率與精度。
【主營(yíng)業(yè)務(wù)】微納3D打印、三維微納加工、無(wú)掩膜激光直寫光刻、灰度光刻先進(jìn)封裝、光互聯(lián)納米制造
【應(yīng)用領(lǐng)域】微光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程、光子學(xué)技術(shù)
【產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)】Nanoscribe公司擁有世界的雙光子無(wú)掩模光刻3D打印技術(shù)，全新Quantum X系列具有專利雙光子灰度光刻(2GL)，可實(shí)現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結(jié)構(gòu)制造，A2PL技術(shù)支持自動(dòng)檢測(cè)芯片邊緣、光纖核心、晶圓及預(yù)結(jié)構(gòu)化基底上的定位標(biāo)記，并以納米級(jí)對(duì)準(zhǔn)精度在指定位置直接打印自由曲面光學(xué)元件，確保打印結(jié)構(gòu)與光學(xué)軸嚴(yán)格對(duì)齊。
【產(chǎn)品評(píng)價(jià)】Quantum X align系統(tǒng)代表了新一代對(duì)準(zhǔn)3D打印技術(shù)的發(fā)展方向，可實(shí)現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結(jié)構(gòu)制造，并具備自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)能力，從而支持可靠、低損耗的光子耦合，以及在傳感與成像等應(yīng)用領(lǐng)域的多樣化需求.
【品牌客戶】哈佛大學(xué)，加州理工學(xué)院，牛津大學(xué)，斯圖加特大學(xué)，麻省理工學(xué)院等
【技術(shù)領(lǐng)域】3D微納加工、雙光子加工
【客戶反饋】納糯三維Nanoscribe的技術(shù)在各項(xiàng)關(guān)鍵性突破研究中被提到，出現(xiàn)在2,100多份經(jīng)同行評(píng)審的期刊出版物中
產(chǎn)品與服務(wù)：
納糯三維科技在中國(guó)市場(chǎng)主要推廣Nanoscribe的一系列3D打印設(shè)備，如Quantum X align系統(tǒng)等，這些設(shè)備可廣泛應(yīng)用于微光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程、光子學(xué)技術(shù)等領(lǐng)域。此外，公司還承擔(dān)著系統(tǒng)安裝、維護(hù)及專業(yè)培訓(xùn)等本土化服務(wù)，為中國(guó)客戶提供了的解決方案。