532 nm 陷波濾光片（532 nm Notch Filter）是一種“帶阻”光學元件，專門在 532 nm 處產生極窄而極深的衰減帶（阻帶），同時讓兩側可見-近紅外波段透過。它廣泛應用于激光防護、拉曼光譜、熒光成像等場景，用于消除 532 nm 激光或其倍頻雜散光，提高信噪比并保護人眼與傳感器。

一、核心光譜指標

? 中心阻帶：532 nm ± 2 nm（可定制 ±1 nm）

? 阻帶寬度 (FWHM)：15–25 nm（典型 17 nm）

? 截止深度：OD 4–OD 6（對應透過率 <0.01 %–0.0001 %）

? 通帶范圍：350–513 nm 與 550–1100 nm（典型 Tavg > 90 %）

? 邊緣陡度：≤1 % Edge wavelength（10 %T–90 %T）

? 損傷閾值：>1 J/cm2 @ 532 nm, 10 ns 脈沖

二、結構與工藝

? 基片：紫外熔融石英（低自熒光、高激光損傷閾值）

? 鍍膜：離子束濺射 (IBS) 或磁控濺射多層硬膜，膜層致密、溫漂小

? 表面質量：40-20 Scratch-Dig；面形 λ/4 @ 632.8 nm