355 nm 窄帶濾光片（Band-Pass 355 nm）專為 Nd:YAG 三倍頻激光（337.1 nm→355 nm）及 355 nm UV-LED/準分子光源設計，以“亞納米級線寬 + OD6 深截止 + 高損傷閾值”三大指標，成為激光微加工、LIBS、LIF、拉曼、光固化 3D 打印、醫療診斷等高端應用的“光譜守門人”。

一、光譜指標

? 中心波長 CWL：355 nm ± 1-2 nm（可定制 ±0.5 nm 超窄版）

? 半高寬 FWHM：1.3-10 nm 四檔可選（激光線寬匹配 1.3 nm；LED 經濟型 10 nm）

? 峰值透過 Tp：≥ 90 %（IBS 硬膜，實測 93 %）

? 截止深度：OD6（200-350 nm & 360-450 nm，T<0.0001 %）

? 過渡陡度：< 2 % CWL，實現 1 nm 內 5 %→80 % 透過變化

? 入射角：0°-5° 設計，角度漂移 < 0.02 nm/°

二、工藝與可靠性

? 基底：紫外級熔融石英（JGS1）或 CaF?；面形 λ/10；平行度 < 30″

? 鍍膜：離子束濺射（IBS）+ 等離子輔助（PIAD）多層 HfO?/SiO? 硬膜，膜層致密、抗紫外老化

? 損傷閾值：> 3 J/cm2 @ 355 nm, 8 ns；連續 > 500 W/cm2，滿足高功率激光加工需求

? 環境測試：-40 ℃?+85 ℃ 循環 100 h，96 h 鹽霧，透過率衰減 < 1 %

三、標準規格與定制

? 尺寸：φ12.5 mm、φ25 mm、50 mm×50 mm；厚度 2-5 mm；可定制異形、臺階、絲印黑邊

? 封裝：陽極氧化鋁環（C-Mount、SM1、M27×0.5 螺紋）或裸片粘貼

? 升級：

– 背面 V-coating（R<0.1 % @ 355 nm）降低熱負荷

– 納米疏水防污膜（接觸角 > 110°）減少灰塵、樹脂附著

– 可配套 355 nm 長波通或陷波濾光片，構建多通道熒光/拉曼系統