ITO靶材的基本介紹

主要成分：氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）

應用領域：液晶顯示、OLED、太陽能電池、觸摸屏等

靶材類型：新靶材、廢靶材（使用后剩余靶材）

ITO靶材主流回收技術

機械物理分離：適合較厚靶層，回收效率高。

濕法化學回收：利用酸堿進行溶解分離，適合大批量廢靶材。

熱處理工藝：部分回收方案采用高溫分離，能耗較大。

銦在半導體、液晶顯示器等電子器件的生產中發揮著重要作用。銦靶材通常用于物相沉積（PVD）工藝中，制造薄膜。然而，銦靶材的成本高昂，且供應有限，因此從廢棄或用過的靶材中回收銦變得至關重要。

提純銦的方法包括蒸餾法、電解法和區域精煉法。蒸餾通過高溫蒸發和冷凝來提純銦。電解利用電流來提純銦。區域精煉則通過移動的熔融區來提純銦。

總之，銦靶材回收是利用銦資源的重要步驟。盡管有多種回收方法，但分離和提純銦仍是關鍵挑戰。應繼續努力提高回收效率和可持續性，以確保銦資源的長期可獲得性。