由于銦靶材在半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域有重要應(yīng)用，一些半導(dǎo)體相關(guān)的企業(yè)和科研機(jī)構(gòu)可能會(huì)有收購銦靶材的需求。這些企業(yè)通常對(duì)銦靶材的質(zhì)量和規(guī)格有較高的要求，它們可能會(huì)通過專業(yè)的渠道或與行業(yè)內(nèi)的供應(yīng)商建立合作關(guān)系來獲取銦靶材。

ITO靶材回收流程

1. 收集廢靶材：收集來源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。

2. 表面處理/預(yù)處理 ：清洗表面雜質(zhì)、油污、物理去除殘留膜層

3. 靶材分離：機(jī)械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層

4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素

5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細(xì)化學(xué)手段，獲得高純度的銦、錫化合物

6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途

ITO靶材主流回收技術(shù)

機(jī)械物理分離：適合較厚靶層，回收效率高。

濕法化學(xué)回收：利用酸堿進(jìn)行溶解分離，適合大批量廢靶材。

熱處理工藝：部分回收方案采用高溫分離，能耗較大。

ITO靶材回收注意事項(xiàng)：

措施：處理酸堿和廢液時(shí)需注意和環(huán)保。

環(huán)保合規(guī)：廢液和殘?jiān)柽_(dá)標(biāo)處理，避免二次污染。

回收效率：合理選擇工藝，提高銦、錫的回收率和純度。