從化學角度看，ITO是一種復合氧化物，其性能很大程度上取決于氧化銦和氧化錫的比例。氧化銦提供高透明度，而氧化錫的摻雜則增強了材料的導電性。通過控制這兩者的配比，ITO能夠在保持光學透明的同時，具備接近金屬的導電能力。這種“透明卻導電”的特性，使得ITO成為制造透明導電膜的理想選擇。

ITO靶材的核心用途是在磁控濺射工藝中作為“濺射源”。磁控濺射是一種常見的薄膜沉積技術，通過高能離子轟擊靶材表面，使靶材原子被“敲擊”出來，終沉積在基板上，形成一層均勻的ITO薄膜。這層薄膜厚度通常在幾十到幾百納米之間，卻能同時實現導電和透光的功能。

透明導電薄膜在現代光電行業中具有至關重要的地位，是觸摸屏、顯示器和太陽能電池等設備中的核心組件。ITO靶材憑借其出色的透明導電特性成為制備透明導電薄膜的材料。

ITO靶材的應用主要集中在以下幾個領域：

顯示技術：ITO薄膜用于LCD、OLED等顯示器件中的透明電極，確保設備既能透光顯示圖像，又能導電傳輸信號。

觸控技術：電容式和電阻式觸摸屏使用ITO作為電極材料，其透明性和導電性決定了觸控設備的靈敏度和視覺效果。

光伏技術：ITO薄膜作為太陽能電池的前電極材料，具有高透明性，能夠保證光線有效進入吸收層，從而提升光電轉換效率。

智能建筑與汽車應用：智能窗、加熱膜等系統中也使用ITO薄膜，其良好的導電性和耐環境穩定性使其在智能玻璃和汽車加熱玻璃等應用中表現出色。