材質與工藝選擇

高頻使用：優先選光敏章、銅章，耐磨且印跡清晰；

藝術用途：選木質、石料（如壽山石、青田石），便于手工雕刻和把玩；

防偽需求：可加入微縮文字、二維碼等防偽設計，或選擇芯片防偽印章。

簡易刻制流程

設計稿反轉：用軟件設計印章稿并鏡像反轉，打印到透光膠片上。

曝光固化：將膠片覆蓋在光敏墊上，放入曝光機照射，未被文字遮擋的區域感光固化。

清洗顯影：用專用清洗液或酒精擦拭印章墊，未固化的部分被溶解，形成凹陷的印文區域。

注油裝殼：注入印油，安裝印章殼或章柄，完成制作。

注意事項

光敏墊需避光保存，避免提前感光失效；

曝光機使用時需佩戴護目鏡，防止紫外線傷眼；

企業公章等需備案的印章，需先通過公安局審核樣式，再用合規工具制作。

企業 / 機構正式用章（公章、財務章）

：光敏印章

原因：

印跡清晰規范，符合工商、銀行等機構審核要求；

儲墨性好，減少頻繁補油，適合每天 100 + 次高頻使用；

需通過公安局備案，選擇合規廠家制作，避免法律風險。

耐用性與使用頻率匹配

高頻使用（如財務報銷）避免選原子印章，其儲油芯易老化，后期印跡易變淺；

低頻使用（如年度報告蓋章）可選原子印章，節省成本且初期效果好。