銦靶是指以銦為主要成分的濺射靶材，是一種在材料表面鍍膜過程中用于提供銦源的材料。在真空濺射鍍膜工藝中，銦靶材在高能粒子的轟擊下，銦原子被濺射出來并沉積在基底材料表面，形成所需的銦薄膜。

優異的光學性能：在可見光波段（380-780nm）內，ITO 薄膜的透光率通常能夠達到 80% 以上，高透光率確保了其在顯示器、太陽能電池等應用中的良好表現。

熱等靜壓（HIP）工藝：在高溫和高壓環境下進行燒結，能夠顯著提高材料的致密度，減少材料中的孔隙，改善材料的微觀結構，使得 ITO 靶材具有更高的電導率和機械強度，但該工藝成本較為昂貴。

精銦是指純度的金屬銦，通常純度在 99.99%（4N）以上，高純度規格可達 99.9999%（6N）甚至更高.精銦是通過精煉工藝去除銦原料中的雜質（如鉛、鋅、鎘、錫等）后得到的高純度金屬，呈銀白色光澤，質地柔軟，具有良好的延展性和導電性。