主要成分：通常由 90% 的氧化銦（In?O?）和 10% 的氧化錫（SnO?）組成，這一比例在實際應用中能實現透明性和導電性的理想平衡。

外觀特性：在靶材形態下，顏色通常為淺黃色至淺綠色，而制成薄膜后則具有透明性。

熱等靜壓（HIP）工藝：在高溫和高壓環境下進行燒結，能夠顯著提高材料的致密度，減少材料中的孔隙，改善材料的微觀結構，使得 ITO 靶材具有更高的電導率和機械強度，但該工藝成本較為昂貴。

精銦是指純度的金屬銦，通常純度在 99.99%（4N）以上，高純度規格可達 99.9999%（6N）甚至更高.精銦是通過精煉工藝去除銦原料中的雜質（如鉛、鋅、鎘、錫等）后得到的高純度金屬，呈銀白色光澤，質地柔軟，具有良好的延展性和導電性。

合金與特殊材料（占比約 10%）：

銦錫合金：熔點低至 120℃，用于保險絲、牙科材料；銦鉛合金可作為核反應堆的中子吸收材料。

銦箔與涂層：高純銦箔用于真空密封、輻射屏蔽（如 X 射線探測器），或作為耐腐蝕涂層（如海洋工程）。

科研與新興領域：

量子點顯示、鈣鈦礦電池、柔性電子器件等前沿技術中，精銦作為高純原料用于薄膜沉積或材料合成。