鴻運鑫主要回收范圍：

冶煉廠：黃金，白銀，鉑金，鈀金，銠金，銀鋅電瓶，以及粗鉛,貴鉛,陽極泥等廢料;

礦山廠：銅粉，鉛粉，活性炭，載金炭，炭泥，銀粉，銀泥，金泥，一切煉金，煉銀，煉鉑，鈀銠的廢渣廢料等。

電鍍廠：金鹽、銀鹽、海綿金粉、氧化銦粉、金銀廢水等廢料；

電子廠：半導體藍膜，半導體鍍金硅片、鍍銀瓷片、壓敏電阻、薄膜開關，廢冷光片，背光源，廢銀漿、鈀漿、擦銀布、擦金布，銀漿罐、金漿罐、含鈀陶瓷片，含金陶瓷片，含銀的陶瓷片、銀焊條、銀焊絲、銀粉、導電銀膠，鍍金，鍍銀，鍍銠鍍鉑等廢料。

首飾廠：拋光打磨粉，地毯，洗手池等廢料；

印刷廠：印刷廢菲林、X光片、定影水；

化工石油廠：鈀，鉑，銠，釕催化劑等。

氧化銦是一種寬禁帶半導體，具有良好的光學透明性，而氧化錫的引入則增強了材料的導電性。這種成分結構使得ITO材料在保證高透光率的同時也具有低電阻率，兼具光學和電學性能。ITO靶材的這一獨特特性使其成為透明導電膜的主流材料，尤其適用于要求高透明度的光電設備和顯示技術。

主流回收工藝分類

當前ITO靶材回收主要圍繞銦元素提取展開，主要分為物理法、化學法和聯合工藝三類：

熔煉過濾法（物理法）

通過高溫熔煉結合篩網過濾實現銦與其他金屬的分離。具體流程包括：

廢銦塊在625℃熔煉爐中熔化，利用鐵/不銹鋼篩網（30-40目）截留固態雜質鐵、鋁。

熔融銦通過重力滴落收集，殘留物可二次熔煉提升回收率至72%。

該方法具有設備簡單（圖1）、周期短（單次處理≤60分鐘）的優勢，適用于含銦量70%-90%的廢靶材。但需控溫（±5℃），否則雜質金屬可能熔化導致純度下降至95%以下。

溶劑萃取法（化學法）

以濕法冶金為基礎，通過P204萃取劑選擇性富集銦：

含銦物料經硫酸浸出后，在pH=1.5-2.0條件下進行三級逆流萃取，銦萃取率可達98%。

該工藝對低品位原料（含銦0.02%）適用性強，但存在試劑消耗大（硫酸用量2-3噸/噸銦）、廢水處理成本高的問題。