ITO靶材的制備通常采用物相沉積（PVD）或化學(xué)氣相沉積（CVD）等方法。PVD法通過濺射技術(shù)將銦和錫等材料沉積在基材上，形成ITO薄膜。CVD法則是通過氣相反應(yīng)在基材表面生成ITO薄膜。這兩種方法都能夠生產(chǎn)高質(zhì)量、均勻的ITO薄膜，但PVD法更為常見。

隨著電子產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展，對(duì)資源的節(jié)約和回收利用的要求也日益提高。ITO靶材中含有昂貴的銦元素，因此開發(fā)有效的回收方法變得至關(guān)重要。

化學(xué)回收法： 化學(xué)回收法主要是通過化學(xué)溶解或還原反應(yīng)將ITO薄膜中的銦元素分離出來。這一過程通常包括酸溶解、絡(luò)合劑處理等步驟，終得到含銦的化合物。隨后，通過進(jìn)一步的化學(xué)反應(yīng)或電化學(xué)方法，可以提純得到高純度的銦。

物理回收法： 物理回收法主要通過物理手段分離ITO薄膜中的銦和錫。這包括磨碎、篩分、磁選等步驟。研究表明，物理回收法可以有效地提高銦的回收率，并且對(duì)環(huán)境友好。

電化學(xué)回收法： 電化學(xué)回收法利用電化學(xué)反應(yīng)將ITO薄膜中的銦還原出來。這通常需要在合適的電解液中進(jìn)行電解，通過施加電流來促使銦在電極上析出。這一方法對(duì)于回收銦具有潛力。

隨著科技的不斷發(fā)展和人們環(huán)保意識(shí)的提高，回收利用貴金屬已成為一種重要的環(huán)保和經(jīng)濟(jì)效益手段。銦作為一種重要的稀有金屬，在電子、光電、通訊等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。

回收銦的保存方法：

1. 干燥保存

回收的銦應(yīng)存放在干燥、清潔的環(huán)境中，避免與腐蝕性物質(zhì)接觸?？梢詫煼湃朊芊獯蛎芊馊萜髦?，以防止氧化和與其他物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)。

2. 溫度控制

回收的銦應(yīng)保持在適宜的溫度范圍內(nèi)，以避免出現(xiàn)質(zhì)量損失和變形。在保存過程中，應(yīng)定期檢查溫度和濕度，確保環(huán)境條件適宜。

3. 分類管理

對(duì)于不同類型和純度的回收銦，應(yīng)進(jìn)行分類管理。可以根據(jù)銦的純度、規(guī)格、用途等因素進(jìn)行分類，以便更好地管理和使用。